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線路板清洗超純水設備*工藝:采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式,這是一種制取超純水的新工藝,也是一種環保,經濟,發展潛力巨大的超純水制備工藝,其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
光電行業清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
二級反滲透加EDI超純水設備控制系統: 整套系統系統有兩種運行模式:手動與自動模式; 原水箱缺水時,整個系統不能工作; 純水箱滿水時,整個系統停止工作; 反滲透每運行2小時(可自行設定)自動沖洗一次; 純水箱缺水EDI系統不能工作; 超純水箱滿水時,EDI膜堆停止工作; EDI膜堆受EDI濃水流量開關控制,流量達不到要求時,EDI膜堆自動停機; 自來水缺水時可以自動補水。